Mu 49 (FeNi50) নরম চৌম্বকীয় সংকর ধাতুর তার/স্ট্রিপ/রড
নরম চৌম্বকীয় আয়রন নিকেল সংকর ধাতু হলো আয়রন নিকেল ভিত্তিক একটি সংকর ধাতু, যেখানে বিভিন্ন পরিমাণে কোবাল্ট (Co), ক্রোমিয়াম (Cr), কপার (Cu), মলিবডেনাম (Mo), ভ্যানাডিয়াম (V), টাইটানিয়াম (Ti), অ্যালুমিনিয়াম (Al), নাইওবিয়াম (Nb), ম্যাঙ্গানিজ (Mn), সিলিকন (Si) এবং অন্যান্য মৌলের মিশ্রণ থাকে। এটি আয়রন নিকেল সংকর ধাতুগুলোর মধ্যে সবচেয়ে বহুমুখী এবং এর সর্বাধিক প্রকারভেদ ও স্পেসিফিকেশন রয়েছে। সিলিকন স্টিল শিট এবং বৈদ্যুতিক বিশুদ্ধ লোহার পরেই এর ব্যবহার বেশি। অন্যান্য নরম চৌম্বকীয় সংকর ধাতুর তুলনায়, ভূ-চৌম্বক ক্ষেত্রে এই সংকর ধাতুর চৌম্বকীয় ভেদ্যতা খুব বেশি এবং বলপ্রয়োগকারী শক্তি কম থাকে। কিছু সংকর ধাতুতে আয়তাকার হিস্টেরেসিস লুপ, অথবা খুব কম অবশিষ্ট চৌম্বকীয় আবেশ তীব্রতা এবং ধ্রুবক চৌম্বকীয় ভেদ্যতার বৈশিষ্ট্যও দেখা যায় এবং এগুলোর একটি বিশেষ উদ্দেশ্য রয়েছে।
এই ধরণের সংকর ধাতুর ভালো মরিচা-রোধী এবং প্রক্রিয়াকরণ বৈশিষ্ট্য রয়েছে, এবং এর আকার ও আকৃতি দিয়ে অত্যন্ত সূক্ষ্ম যন্ত্রাংশ তৈরি করা যায়। যেহেতু এই সংকর ধাতুর রোধাঙ্ক বিশুদ্ধ লোহা এবং সিলিকন স্টিল শিটের চেয়ে বেশি, তাই এটিকে সহজেই পাতলা বেল্টে প্রক্রিয়াজাত করা যায়, ফলে কয়েক মাইক্রনের কম পুরুত্বের পাতলা বেল্টও কয়েক মেগাহার্টজ উচ্চ কম্পাঙ্কে প্রয়োগ করা সম্ভব হয়।
এই সংকর ধাতুর সম্পৃক্ত চৌম্বকীয় আবেশ তীব্রতা এবং কিউরি তাপমাত্রা ফেরাইট নরম চৌম্বকীয় পদার্থের চেয়ে বেশি। এটি মহাকাশ শিল্প এবং অন্যান্য ইলেকট্রনিক শিল্পে উচ্চ সংবেদনশীলতা, আকারের নির্ভুলতা, ছোট আয়তন, উচ্চ কম্পাঙ্কে কম ক্ষয়, সময় ও তাপমাত্রায় স্থিতিশীলতা এবং বিভিন্ন কার্যকারিতা সম্পন্ন বিশেষ ইলেকট্রনিক উপাদান তৈরিতে ব্যবহৃত হয়। যোগাযোগ, যন্ত্রপাতি, ইলেকট্রনিক কম্পিউটার, রিমোট কন্ট্রোল, রিমোট সেন্সিং ইত্যাদি সিস্টেমে এটি ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।
দুর্বল চৌম্বক ক্ষেত্রে নরম চৌম্বকীয় সংকর ধাতুগুলোর উচ্চ ভেদ্যতা এবং কম বলপ্রয়োগকারী শক্তি থাকে। এই ধরনের সংকর ধাতু রেডিও ইলেকট্রনিক্স, সূক্ষ্ম যন্ত্র ও মিটার, রিমোট কন্ট্রোল এবং স্বয়ংক্রিয় নিয়ন্ত্রণ ব্যবস্থায় ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। এদের সংমিশ্রণ প্রধানত শক্তি রূপান্তর এবং তথ্য প্রক্রিয়াকরণের জন্য ব্যবহৃত হয়, যা এই দুটি ক্ষেত্রেই জাতীয় অর্থনীতিতে একটি গুরুত্বপূর্ণ উপাদান।
ভূমিকা
নরম চৌম্বকীয় সংকর ধাতু বাইরের চৌম্বক ক্ষেত্রের প্রভাবে সহজে চৌম্বকায়িত হয়, এবং চৌম্বক আবেশের তীব্রতা ও চৌম্বকীয় সংকর ধাতুর চৌম্বক ক্ষেত্র অপসারণের পর এই মৌলিক চৌম্বক ক্ষেত্রটি অদৃশ্য হয়ে যায়।
হিস্টেরেসিস লুপের ক্ষেত্রফল ছোট ও সংকীর্ণ, বলপ্রয়োগকারী শক্তি সাধারণত ৮০০ অ্যাম্পিয়ার/মিটারের নিচে, রোধাঙ্ক বেশি, এডি কারেন্ট লস কম, ভেদ্যতা বেশি এবং সম্পৃক্ত চৌম্বক আবেশ বেশি। এগুলোকে সাধারণত শিট এবং স্ট্রিপ আকারে প্রক্রিয়াজাত করা হয়। গলিত অবস্থায় প্রস্তুত করা হয়। প্রধানত বৈদ্যুতিক সরঞ্জাম এবং টেলিযোগাযোগ শিল্পের বিভিন্ন কোর উপাদানে (যেমন ট্রান্সফরমার কোর, রিলে আয়রন কোর, চোক কয়েল ইত্যাদি) ব্যবহৃত হয়। সাধারণত ব্যবহৃত নরম চৌম্বকীয় সংকর ধাতুগুলোর মধ্যে রয়েছে নিম্ন কার্বন বৈদ্যুতিক ইস্পাত, এমিনেম লোহা, সিলিকন ইস্পাত শিট, নরম চৌম্বকীয় সংকর ধাতু, কোবাল্ট নরম চৌম্বকীয় সংকর ধাতু, নিকেল লোহা, সিলিকন নরম চৌম্বকীয় সংকর ধাতু ইত্যাদি।
ভৌত বৈশিষ্ট্য
বাহ্যিক চৌম্বক ক্ষেত্রের প্রভাবে সহজেই চৌম্বকায়িত হয়, তবে চৌম্বক আবেশের তীব্রতা (চৌম্বকীয় আবেশ) এবং চৌম্বকীয় সংকর ধাতুর মৌলিক বিলুপ্তি ছাড়া চৌম্বক ক্ষেত্রের প্রভাবে এটি ঘটে না। হিস্টেরেসিস লুপের ক্ষেত্রফল ছোট এবং সংকীর্ণ, এবং বলপ্রয়োগকারী বল (Hc) গড়ে ১০ Oe-এর কম (সঠিক সংকর ধাতু দেখুন)। ঊনবিংশ শতাব্দীর শেষের দিকে এটি কম কার্বন ইস্পাত দিয়ে মোটর এবং ট্রান্সফরমারের কোর তৈরিতে ব্যবহৃত হত। ১৯০০ সালে উচ্চ চৌম্বকীয় সিলিকন ইস্পাতের পাত দ্রুত কম-কার্বন ইস্পাতকে প্রতিস্থাপন করে এবং বিদ্যুৎ শিল্পের পণ্য উৎপাদনে ব্যবহৃত হতে শুরু করে। ১৯১৭ সালে টেলিফোন ব্যবস্থার বিদ্যুৎ চাহিদা মেটাতে Ni–Fe সংকর ধাতু তৈরি করা হয়। এরপর বিভিন্ন চৌম্বকীয় বৈশিষ্ট্যসম্পন্ন Fe–Co সংকর ধাতু (১৯২৯), Fe–Si–Al সংকর ধাতু (১৯৩৬) এবং Fe–Al সংকর ধাতু (১৯৫০) বিশেষ উদ্দেশ্য পূরণের জন্য তৈরি করা হয়। ১৯৫৩ সালে চীনে হট রোল্ড সিলিকন ইস্পাতের পাত উৎপাদন শুরু হয়। পঞ্চাশের দশকের শেষের দিকে Ni–Fe এবং Fe, Co-এর মতো নরম চৌম্বকীয় সংকর ধাতু নিয়ে গবেষণা শুরু হয় এবং ষাটের দশকে ধীরে ধীরে কিছু প্রধান নরম চৌম্বকীয় সংকর ধাতু উৎপাদন শুরু হয়। সত্তরের দশকে এর উৎপাদন শুরু হয়। কোল্ড রোল্ড সিলিকন স্টিল বেল্ট।
নরম চৌম্বকীয় সংকর ধাতুর চৌম্বকীয় বৈশিষ্ট্যগুলি প্রধানত হল: (1) কোয়ারসিভ ফোর্স (Hc) এবং কম হিস্টেরেসিস লস (Wh); (2) রোধাঙ্ক (rho) বেশি, কম এডি কারেন্ট লস (We); (3) প্রাথমিক পারমিয়াবিলিটি (mu 0) এবং সর্বোচ্চ উচ্চ
প্রধান ধরণের
একে নিম্ন কার্বন বৈদ্যুতিক ইস্পাত এবং এমিনেম লোহা, সিলিকন ইস্পাতের পাত, নিকেল লোহা নরম চৌম্বকীয় সংকর ধাতু, কোবাল্ট নরম চৌম্বকীয় সংকর ধাতু, সিলিকন অ্যালুমিনিয়াম নরম চৌম্বকীয় সংকর ধাতু ইত্যাদিতে ভাগ করা যায়। বিদ্যুৎ শিল্পের ক্ষেত্রে, এটি প্রধানত উচ্চ চৌম্বক ক্ষেত্রে উচ্চ চৌম্বকীয় আবেশ এবং কম কোর লসযুক্ত সংকর ধাতু ব্যবহার করে। ইলেকট্রনিক শিল্পে, এটি প্রধানত নিম্ন বা মাঝারি চৌম্বক ক্ষেত্রে উচ্চ ভেদ্যতা এবং কম বলপ্রয়োগ ক্ষমতা সম্পন্ন সংকর ধাতু ব্যবহার করে। উচ্চ কম্পাঙ্কের ক্ষেত্রে অবশ্যই পাতলা স্ট্রিপ বা উচ্চ রোধ ক্ষমতার সংকর ধাতু ব্যবহার করতে হবে। সাধারণত পাত বা স্ট্রিপ ব্যবহার করা হয়।
রাসায়নিক গঠন
| রচনা | C | P | S | Mn | Si |
| ≤ | |||||
| বিষয়বস্তু (%) | ০.০৩ | ০.০২ | ০.০২ | ০.৬~১.১ | ০.৩~০.৫ |
| রচনা | Ni | Cr | Mo | Cu | Fe |
| বিষয়বস্তু (%) | ৪৯.০~৫১.০ | - | - | ০.২ | বাল |
ভৌত বৈশিষ্ট্য
| দোকানের সাইনবোর্ড | রৈখিক প্রসারণ সহগ | প্রতিরোধ ক্ষমতা(μΩ·m) | ঘনত্ব(গ্রাম/ঘনসেমি) | কিউরি পয়েন্ট(℃) | সম্পৃক্তি চৌম্বকীয় সংকোচন সহগ (10-6) |
| 1j50 | ৯.২০ | ০.৪৫ | ৮.২ | ৫০০ | ২৫.০ |
তাপ প্রক্রিয়াকরণ ব্যবস্থা
| দোকানের সাইনবোর্ড | অ্যানিলিং মাধ্যম | উত্তাপের তাপমাত্রা | তাপমাত্রা সময়/ঘণ্টা বজায় রাখুন | শীতলীকরণের হার |
| 1j50 | শুষ্ক হাইড্রোজেন বা ভ্যাকুয়াম, চাপ ০.১ Pa-এর বেশি নয়। | এর সাথে চুল্লিটি ১১০০~১১৫০℃ পর্যন্ত উত্তপ্ত হয়। | ৩~৬ | ১০০ ~ ২০০ ℃/ঘণ্টা হারে দ্রুত শীতল করে ৬০০ ℃ পর্যন্ত নামানো হয়, এরপর দ্রুত ৩০০ ℃-তে নামিয়ে চার্জ নেওয়া হয়। |
১৫০ ০০০০ ২৪২১